EDI超纯水装置在半导体行业中的应用

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<DIV style="PADDING-BOTTOM: 5px; LINE-HEIGHT: 18px; PADDING-LEFT: 5px; PADDING-RIGHT: 5px; PADDING-TOP: 5px" align=left>
<P>　　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子水质技术分为五个行业标准，分别为1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以区分不同水质。</P>
<P>　　<STRONG>半导体行业制备超纯水工艺介绍</STRONG></P>
<P>　　1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床(复床)→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点</P>
<P>　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点</P>
<P>　　3、采用反渗透水处理设备与EDI超纯水装置，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：</P>
<P>　　原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→EDI超纯水装置泵→保安过滤器→紫外线→<A href="http://baike.baidu.com/view/1202359.htm">EDI超纯水装置</A>→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点</P>
<P>　　<STRONG><A href="http://www.ediwater.cn/chanpin/edi/2010-12-20/68.html"><STRONG>EDI超纯水装置特点</STRONG></A></STRONG></P>
<P>　　EDI超纯水装置不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:</P>
<P>　　·连续运行,产品水水质稳定</P>
<P>　　·容易实现全自动控制</P>
<P>　　·无须用酸碱再生</P>
<P>　　·不会因再生而停机</P>
<P>　　·节省了再生用水及再生污水处理设施</P>
<P>　　·产水率高(可达95%)</P>
<P>　　·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施</P>
<P>　　·占地面积小</P>
<P>　　·使用安全可靠,避免工人接触酸碱</P>
<P>　　·降低运行及维护成本</P>
<P>　　·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施</P>
<P>　　·安装简单、费用低廉</P>
<P>　　·设备初投资大</P></DIV>