2.0%(W)柠檬酸(C6H8O7)的低pH清洗液。用于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)、金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
0.5%(W)盐酸低pH清洗液,主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等),金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等),及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些,因为盐酸(HCl)是强酸。
0.1%(W)氢氧化钠高pH清洗液。用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。
RO膜元件可置于压力容器中,在高流速的情况下,用循环的清洁水(RO产品水或不含游离氯的洁净水)流过膜元件的方式进行清洗。RO的清洗程序完全取决于具体情况,必要时更换用于循环的清洁水。 |